特許
J-GLOBAL ID:200903058595078257

エキシマレーザー発振装置及び露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 福森 久夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-208816
公開番号(公開出願番号):特開平10-041564
出願日: 1996年07月19日
公開日(公表日): 1998年02月13日
要約:
【要約】【課題】 寿命が長く、印加電極の調整だけで所望の出力を長時間得ることができるエキシマレーザー発振装置を提供すること。出力光の強度を高くしながら、狭帯域化が実現されるエキシマレーザー装置を提供すること。狭帯化モジュールを用いることなく波長幅の狭いスペクトルが達成でき、装置の小型化・簡略化が実現されたエキシマレーザー露光装置を提供すること。【解決】 レーザーガスを収容するためのレーザチャンバと、該チャンバ内に設けられた一対の電極と、該一対の電極に電圧を印加してレーザガスを励起し発光をおこさせ、一対の反射鏡により、レーザー発振を起こさせるエキシマレーザ発振装置において、前記レーザチャンバ内表面のうち、前記一対の反射鏡と面していない全ての部分あるいは、ほとんどの部分を異なる屈折率を有する多層誘電体膜により形成したことを特徴とする。
請求項(抜粋):
レーザーガスを収容するためのレーザーチャンバと、該チャンバ内に設けられた一対の電極と、該一対の電極に電圧を印加してレーザーガスを励起し発光をおこさせ、一対の反射鏡により、レーザー発振を起こさせるエキシマレーザー発振装置において、前記レーザーチャンバ内表面のうち、前記一対の反射鏡と面していない全ての部分あるいは、ほとんどの部分を異なる屈折率を有する多層誘電体膜により形成したことを特徴とするエキシマレーザー発振装置。
IPC (3件):
H01S 3/038 ,  H01S 3/03 ,  H01S 3/225
FI (3件):
H01S 3/03 D ,  H01S 3/03 Z ,  H01S 3/223 E

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