特許

J-GLOBAL ID：200903058605889690

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐藤 和史 ,  新田 和行 ,  山崎 晃義 ,  坂井 与日 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-290693
公開番号（公開出願番号）：特開2004-070366
出願日： 2003年08月08日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：

【課題】 放射線、特にdeep-UVやKrF、ArFなどのエキシマレーザー光に対する光透過性に優れ、高感度、かつ高解像性で、耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性に優れ、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成することのできるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物に用いて好適なレジスト用酸発生剤を提供する。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する樹脂成分と、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物とを主成分とし、前記(B)成分として、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタンとビス(2,4-ジメチルフェニルスルホニル)ジアゾメタンとの混合物を用いる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する樹脂成分と、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物とを含むポジ型レジスト組成物において、 前記(B)成分が、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタンとビス(2,4-ジメチルフェニルスルホニル)ジアゾメタンとの混合物であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/039 ,  C08F2/54 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F2/54 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (21件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025CC20 ,  4J011PA29 ,  4J011QA09 ,  4J011TA10 ,  4J011UA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許4,491,628号公報
  

審査官引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-191020   出願人：東京応化工業株式会社