特許
J-GLOBAL ID：200903058610590784
自己組織化単分子膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
今村 正純 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-337255
公開番号（公開出願番号）：特開2001-152363
出願日： 1999年11月29日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：
【要約】【課題】 列状分子空げきや金表面原子層の脱落に伴うピットなどの欠陥の少ない自己組織化単分子膜を製造する方法を提供する。【解決手段】 アルコール類などの有機溶媒中に置換又は無置換の直鎖アルカンチオールを含む溶液に金などの金属基板を浸漬して該アルカンチオールからなる自己組織化単分子膜を該金属基板表面に形成する方法において、該溶媒の温度を50°C以上として膜形成を行うことを特徴とする方法。
請求項（抜粋）：
有機溶媒中に置換又は無置換の直鎖アルカンチオールを含む溶液に金属基板を浸漬して該アルカンチオールからなる自己組織化単分子膜を該金属基板表面に形成する方法において、該溶媒の温度を50°C以上として膜形成を行うことを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 26/00 Z
, C07C321/04
4H006AA03
, 4H006AB78
, 4H006AB91
, 4H006TA04
, 4K044AA06
, 4K044AB05
, 4K044BA19
, 4K044BA21
, 4K044BB01
, 4K044BC00
, 4K044BC02
, 4K044CA53
