特許
J-GLOBAL ID:200903058621402785
有機EL装置、有機EL装置の製造方法および電子機器
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
西 和哉
, 志賀 正武
, 青山 正和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-311849
公開番号(公開出願番号):特開2005-079064
出願日: 2003年09月03日
公開日(公表日): 2005年03月24日
要約:
【課題】 製造コストの低減が可能であり、また仕事関数が小さい金属について製造プロセスにおける安定性を確保することが可能な、有機EL装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】 対向する陽極23と主陰極50との間に、少なくとも発光層60を備えた有機EL装置であって、発光層60の表面に、ビスアセチルアセトナトカルシウム錯体の溶解液を塗布して電子注入層を形成し、電子注入層52の表面に、PEDOT/PSS分散液を塗布して主陰極50を形成する。さらに主陰極50の表面に、金属微粒子の分散液を塗布して補助陰極を形成することが望ましい。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
対向する陽極と主陰極との間に、少なくとも発光層を備えた有機EL装置であって、
前記発光層と前記主陰極との間に、電子注入性を有する金属錯体からなる電子注入層を備え、
前記主陰極は、導電性材料を含む第1液状体を塗布することによって形成されていることを特徴とする有機EL装置。
IPC (4件):
H05B33/26
, H05B33/10
, H05B33/14
, H05B33/22
FI (5件):
H05B33/26 A
, H05B33/26 Z
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/22 B
Fターム (6件):
3K007AB05
, 3K007AB11
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
引用特許:
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