特許

J-GLOBAL ID：200903058630767370

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びそれらの製造方法

発明者： 金子 英雄 ,  稲月 判臣 ,  塚本 哲史 ,  岡崎 智
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-084919
公開番号（公開出願番号）：特開2002-287323
出願日： 2001年03月23日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【解決手段】 透明基板上に位相シフト膜を少なくとも一層設けてなる位相シフトマスクブランクにおいて、上記位相シフト膜は少なくとも金属とゲルマニウムを含むことを特徴とする位相シフトマスクブランク。【効果】 本発明によれば、少なくともモリブデン等の金属、ゲルマニウムを含む位相シフト膜を形成したことにより、位相差を180度変化させるのに必要な膜厚を薄くすることが可能な、高品質な位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクが得られる。

請求項（抜粋）：

透明基板上に位相シフト膜を少なくとも一層設けてなる位相シフトマスクブランクにおいて、上記位相シフト膜は少なくとも金属とゲルマニウムを含むことを特徴とする位相シフトマスクブランク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (3件)：

2H095BB05 ,  2H095BB25 ,  2H095BC24