特許

J-GLOBAL ID：200903058631798296

イチイの組織培養によるタキサン化合物の製造法

発明者： ▲高▼見 正道 ,  滝川 健次
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  新日鐵化学株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-108622
公開番号（公開出願番号）：特開平8-298993
出願日： 1995年05月02日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、医薬品又は医薬原料として有用なタキサン化合物の、イチイの組織培養による効率的な製造法を提供することを目的とする。【構成】 本発明は、イチイの組織培養によるタキサン化合物の製造法であって、その組織培養に用いられる培地中のヨウ素イオン濃度を0.1mmol/l 〜10mmol/lの範囲内とし、又はさらに、その培地にヨウ素イオンの源としてヨウ化アンモニウムを添加する、ことを特徴とする方法を提供し、これによりタキサン化合物の安定供給に寄与することができる。

請求項（抜粋）：

イチイの組織培養によるタキサン化合物の製造法であって、その組織培養に用いられる培地中のヨウ素イオン濃度を0.1mmol/l 〜10mmol/lの範囲とすることを特徴とする方法。

IPC (5件)：

C12P 17/02 ,  C07D305/14 ,  A61K 31/335 ADU ,  C12N 5/04 ,  C12R 1:91

FI (4件)：

C12P 17/02 ,  C07D305/14 ,  A61K 31/335 ADU ,  C12N 5/00 F