特許

J-GLOBAL ID：200903058643675173

電着レジスト浴の再生方法

発明者： 加藤 勝 ,  新妻 裕志 ,  中川 修太
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-141569
公開番号（公開出願番号）：特開平6-334302
出願日： 1993年05月20日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：

【要約】【構成】 本発明は、中和度が高くなり塗膜性能が低下した電着浴を、隔膜式電着槽内で特定条件下で電解することを特徴とする電着レジスト浴の再生方法である。【効果】 本発明の再生方法を用いると、極めて簡単な方法で、しかも薬剤を使用せず、また廃液も出さずに、電着レジスト浴を経済的に再生することができる。

請求項（抜粋）：

中和度が高くなった電着レジスト浴を、塗膜形成が行われ得る最小電流密度より低い電流密度において隔膜式電着槽内で電解することを特徴とする電着レジスト浴の再生方法。

IPC (4件)：

H05K 3/06 ,  C25D 13/00 ,  C25D 13/24 ,  C25D 5/02