特許

J-GLOBAL ID：200903058644409051

光学素子の製造方法

発明者： 水野 剛
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-106722
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290008
出願日： 2000年04月04日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】 そこで、本発明は、上述した実情に鑑みてなされたものであり、小型化されてもなお精度がよく、且つ大量生産を可能とする光学素子の製造方法の提供を目的としている。【解決手段】 複数のグレースケールマスクから形成されているマスクアレイウェハ21を、レジスト層が形成されているウェハ22上に載置する((A)及び(B)に示す工程)。そして、マスクアレイウェハ21を介して、ウェハ21上に形成されているレジスト層を露光処理する。その後、さらに現像処理して所定のレジストパターンを形成する。そして、エッチング処理により、ウェハ22上に複数のレンズ面を形成する((C)に示す工程)。このような処理工程を、技術が確立されている半導体プロセスを利用して行う。

請求項（抜粋）：

マスク形成部材により、レンズ材料基板とされるウェハ上に複数のレンズの曲面に応じたマスクを形成するマスク形成工程と、上記マスク形成工程にて形成されたマスクを介してウェハをエッチングして、上記ウェハ上に複数のレンズの曲面を形成するレンズ面形成工程と、上記レンズ面形成工程にて複数のレンズの曲面が形成されたウェハからレンズを個々に分離するレンズ形成工程とを有することを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 3/00 ,  C03C 15/00 ,  G02B 7/02

FI (3件)：

G02B 3/00 Z ,  C03C 15/00 D ,  G02B 7/02 B

Fターム (11件)：

2H044AB02 ,  2H044AB07 ,  2H044AB15 ,  2H044AB17 ,  2H044AB24 ,  2H044AB25 ,  4G059AA11 ,  4G059AB05 ,  4G059AB06 ,  4G059AB07 ,  4G059BB01