特許

J-GLOBAL ID：200903058653116555

走査型露光装置

発明者： 西 健爾
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-236766
公開番号（公開出願番号）：特開平8-102437
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】【目的】 マスクと感光基板とを同期してそれぞれ所定の方向に走査することによりマスク上のパターンを逐次感光基板上に露光する走査型露光装置において、広いショット領域の全面で感光基板の表面と投影光学系の結像面とのずれを少なくする。【構成】 ウエハホルダ23上に走査方向に平行に凸状の接触部24a〜24cを形成し、これら接触部上にウエハ5の裏面を吸着するための吸着溝25a〜25cを形成する。接触部24a〜24cの間にZ方向に上下移動自在に設けた駆動部材31a〜31dによりウエハ5の裏面を押して、ウエハ5の非走査方向の曲がりを補正する。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスクを照明し、前記マスクを第1の走査方向に走査するのと同期して、移動ステージを介して感光基板を前記第1の走査方向に対応する第2の走査方向に走査することにより、前記感光基板上に前記マスクのパターンを逐次露光する走査型露光装置において、前記移動ステージの前記感光基板との接触部を、前記第2の走査方向に平行な方向に延びた複数の直線状の凸部としたことを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 515 G ,  H01L 21/30 526 Z

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭56-130738
  
• 特開昭63-028035
  
• 特開昭62-102523
  
• 特開平3-253017
  
• 基板保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-357049   出願人：キヤノン株式会社