特許

J-GLOBAL ID：200903058662423070

露光装置

発明者： 長谷川 敬恭 ,  寺島 茂
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-182526
公開番号（公開出願番号）：特開2002-373852
出願日： 2001年06月15日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】【課題】投影光学系と基板との間の空間などの露光光が通過する空間(光路空間)内のガスを不活性ガスによって置換するために要する時間を短縮する。【解決手段】この露光装置は、ウエハステージ102と、投影光学系101と、ウエハステージ102と投影光学系101との間の露光光が通過する光路空間113に不均一な流速の不活性ガスを供給する給気部112と備え、下方に向かう不活性ガスの流れを形成する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを露光光を用いて基板に投影し転写する露光装置であって、ステージと、光学系と、前記ステージと前記光学系との間の露光光が通過する空間を含む光路空間に不活性ガスの流れを形成するガス流形成機構と、を備え、前記ガス流形成機構は、前記光路空間に空間的又は時間的に不均一な分布を有する不活性ガスの流れを形成することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 F

Fターム (5件)：

5F046AA22 ,  5F046BA04 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046DA27