特許
J-GLOBAL ID：200903058663586380
フォトマスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-081063
公開番号（公開出願番号）：特開平8-278625
出願日： 1995年04月06日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】フォトマスクの製造方法において、フォトマスクブランクの遮光性金属薄膜に選択的にレーザービームを照射し、ウエットエッチング速度を変化させ、パターンを作成し、フォトマスク製造工程の短縮化を計る。【構成】透明基板1上に、遮光性金属薄膜2を形成したフォトマスクブランク10にKrFエキシマレーザ21を選択的に照射してパターンを作成するフォトマスクの製造方法において、遮光性金属薄膜2の材料が、クロム又は窒化クロムからなり、エキシマレーザ21照射部のウエットエッチング速度が非照射部より遅くなることを利用、また遮光性金属薄膜2の材料が、窒化酸化クロム又は酸化クロムからなり、エキシマレーザ21照射部のウエットエッチング速度が非照射部より速くなることを利用して、パターニングを行う。
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光性金属薄膜を形成したフォトマスクブランクに、エキシマレーザを選択的に照射して、エッチング処理し、パターン作成することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 L
, H01L 21/30 502 P
