特許

J-GLOBAL ID：200903058680841881

薄層形成用原料及びそれを利用した機能性シート

発明者： 渡辺 肇 ,  高木 里砂 ,  山本 美和 ,  田中 愛益
出願人/特許権者： サンスター株式会社 ,  サンスター技研株式会社
代理人 (1件)： 柳野 隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-109422
公開番号（公開出願番号）：特開平7-316420
出願日： 1994年05月24日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：

【要約】【目的】合成樹脂や吸着体などを使用せずに簡単に、徐放性に優れた薄層形成用原料及びそれを用いた機能性シートを提供すること。【構成】疎水性ポリウレタン分散液と親水性ポリウレタンと水とからなるポリウレタン乳濁液と、天然香料、合成香料、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、抗カビ剤、抗菌剤、忌避剤から選んだ1種または2種以上のものと、を混合して得られる薄層形成用原料。

請求項（抜粋）：

疎水性ポリオール、イソシアネート化合物、鎖伸長剤を有機溶媒中で反応せられる疎水性ポリウレタン分散液と、疎水性ポリオール、親水性ポリオール、イソシアネート化合物を反応させて得られる乳化剤としての親水性ポリウレタンと、水とからなるポリウレタン乳濁液と、天然香料、合成香料、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、抗カビ剤、抗菌剤、忌避剤から選んだ1種または2種以上のものと、を混合して得られる薄層形成用原料。

IPC (11件)：

C08L 75/04 NGH ,  B32B 27/08 ,  B32B 27/10 ,  B32B 27/12 ,  B32B 27/18 ,  B32B 27/40 ,  C08J 5/24 CFF ,  C08K 5/00 NFZ ,  C09D175/04 PHW ,  C09D175/04 PHX ,  C08L 75:04