光メモリデバイス及びその製造法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小田島平吉 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-547896
公開番号（公開出願番号）：特表2001-523372
出願日： 1998年05月07日
公開日（公表日）： 2001年11月20日
要約：

【要約】光メモリデバイスは基板上に形成される少なくとも1つのデータ層を有する。記録媒体により覆われると基板の光学的性質と異なる所望の光学的性質を得ることができる複数の領域を含むパターンを基板の上面に形成する。基板のパターン付けされた表面に記録媒体をコーティングする。記録領域が所望の光学的性質を得た後に記録媒体をパターン付けされた表面から除去する。

請求項（抜粋）：

(a)記録媒体により覆われると基板の光学的性質と異なる所望の光学的性質を得ることができる複数の領域を有するパターンを基板の上面に形成し;(b)基板のパターン付けされた表面に記録媒体をコーティングし;(c)記録領域が所望の光学的性質を得た後にパターン付けされた表面から記録媒体を除去する段階を含む基板上に形成されたデータ層を有する光メモリデバイスの製造法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 , G11B 7/24 522 , G11B 7/24 531

FI (3件)：

G11B 7/26 , G11B 7/24 522 X , G11B 7/24 531 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

光情報記録媒体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-176782 出願人：日立マクセル株式会社
多層光ディスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-094068 出願人：ソニー株式会社
多層の情報面を有する光ディスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-169763 出願人：日本コロムビア株式会社

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