特許

J-GLOBAL ID：200903058683713248

成膜装置および成膜方法

発明者： 藤井 秀雄
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 増田 達哉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-234683
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059172
出願日： 1999年08月20日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】多彩な膜組成・膜構成を得ることができ、所望の薄膜を短時間で効率的に製造でき、特に、傾斜屈折率薄膜を容易に形成することができる成膜装置およびこの成膜装置を用いた成膜方法を提供することにある。【解決手段】成膜装置1は、チャンバ2と、基板3を保持する保持部4と、膜厚計5と、シャッタ6と、第1の材料供給源7と、第2の材料供給源8と、駆動系11と、制御手段12とを有している。第1の材料供給源7は、チャンバ2の底部に固定・配設されている。第2の材料供給源8は、駆動系11を備え、基板3の成膜面に対して垂直方向に移動することができる。

請求項（抜粋）：

チャンバと、チャンバ内に配置された複数の材料供給源と、薄膜形成対象物を保持する保持部とを有し、気相成膜法により材料供給源から供給される膜材料により薄膜形成対象物に成膜する成膜装置であって、前記材料供給源の少なくとも1つが移動可能であり、前記薄膜形成対象物に対する距離が可変であることを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/54 ,  G02B 1/10

FI (2件)：

C23C 14/54 A ,  G02B 1/10 Z

Fターム (11件)：

2K009AA02 ,  2K009BB02 ,  2K009BB12 ,  2K009BB14 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009DD03 ,  4K029BC07 ,  4K029DB15 ,  4K029EA00 ,  4K029EA01