特許
J-GLOBAL ID：200903058684449870
近接場光プローブおよびこれを用いた近接場光学顕微鏡
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鹿島 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-003172
公開番号（公開出願番号）：特開2005-195500
出願日： 2004年01月08日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
【課題】 耐摩耗性、耐剥離性に優れた近接場光プローブを提供する。【解決手段】 先鋭化されたプローブの最先端面近傍に金属領域Mを有し、この金属領域Mに励起光を照射することによって金属領域Mの前方に近接場光を発生させる近接場光プローブ13において、最先端面に金属領域Mが露出する場合は露出する金属領域Mの一部を残し、金属領域Mの外側に誘電体薄層が形成される場合は誘電体薄層の一部を残し、これら残された金属領域Mあるいは誘電体薄層よりもプローブ根元側に金属領域Mよりも機械強度が強い誘電体材料からなる保護部材領域22cが形成されるようにして、保護部材領域22cにより磨耗、剥離の進行を抑制する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
先鋭化されたプローブの最先端面近傍に金属領域を有し、この金属領域に励起光を照射することによって金属領域近傍に近接場光を発生させる近接場光プローブであって、
金属領域は最先端面に露出するか、金属領域の外側に励起光波長の1/20以下の膜厚の誘電体薄層が形成され、
最先端面に金属領域が露出する場合は露出する金属領域の一部を残し、金属領域の外側に誘電体薄層が形成される場合は誘電体薄層の一部を残し、これら残された金属領域あるいは誘電体薄層よりもプローブ根元側に金属領域よりも機械強度が強い誘電体材料からなる保護部材被覆領域が形成されることを特徴とする近接場光プローブ。
IPC (3件)：
G01N13/14
, G01B11/30
, G12B21/06
G01N13/14 B
, G01B11/30 Z
, G12B1/00 601C
2F065AA49
, 2F065FF00
, 2F065FF41
, 2F065GG04
, 2F065GG21
, 2F065LL00
, 2F065PP12
