特許

J-GLOBAL ID：200903058687984050

膜形成方法および膜形成装置

発明者： 大坪 達弘 ,  森田 真登 ,  中 裕之
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-298263
公開番号（公開出願番号）：特開2002-102778
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2002年04月09日
要約：

【要約】【課題】 被塗布物表面の凹凸に影響されることなく、上面が平坦でかつ膜厚の均一性に優れた膜を形成できる膜形成方法を提供する。【解決手段】 半径方向に規則性のある凹凸を表面に備えた被塗布物1を、ほぼ水平に保持しながら回転させ、その表面中央部に上方から塗布液12を供給し、遠心力により被塗布物1表面に膜を形成する膜形成方法において、前記回転時に、被塗布物1上の塗布液12に振動を与えながら膜を形成する。

請求項（抜粋）：

凹凸を表面に備えた被塗布物を、ほぼ水平に保持しながら回転させ、その表面中央部に上方から塗布液を供給し、遠心力により被塗布物表面に膜を形成する膜形成方法において、前記回転時に、被塗布物上の塗布液に振動を与えながら膜を形成することを特徴とする膜形成方法。

IPC (6件)：

B05C 11/08 ,  B05C 11/04 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502 ,  G11B 7/26 531 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

B05C 11/08 ,  B05C 11/04 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  G11B 7/26 531 ,  H01L 21/30 564 D

Fターム (22件)：

2H025AB17 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC84 ,  4D075DA07 ,  4D075DC21 ,  4F042AA07 ,  4F042DD07 ,  4F042EB09 ,  4F042EB18 ,  4F042EB19 ,  5D121AA04 ,  5D121EE22 ,  5D121EE24 ,  5D121EE28 ,  5D121GG20 ,  5D121GG28 ,  5D121GG30 ,  5F046JA02 ,  5F046JA07 ,  5F046JA10 ,  5F046JA16