特許
J-GLOBAL ID:200903058697555408
剥離液及び剥離方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
荒船 博司
, 荒船 良男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-165751
公開番号(公開出願番号):特開2004-012783
出願日: 2002年06月06日
公開日(公表日): 2004年01月15日
要約:
【課題】サンドブラスト用の感光性樹脂フィルムを確実に剥離するための剥離液及び剥離方法を提供する。【解決手段】基板をサンドブラスト加工するために基板上にマスクとして設けられる感光性樹脂フィルムを、サンドブラスト加工後に剥離するための剥離液において、極性溶媒を主成分とする。特に、ジメチルスルホキシド及びモノエタノールアミンを、重量比で5:95〜95:5の割合で混合してなる剥離液や、ジメチルスルホキシド及びN-メチル-2-ピロリドンを重量比で5:95〜95:5の割合で混合してなる剥離液が好ましい。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
基板をサンドブラスト加工するために基板上にマスクとして設けられる感光性樹脂フィルムを、サンドブラスト加工後に剥離するための剥離液において、
極性溶媒を主成分とすることを特徴とする剥離液。
IPC (3件):
G03F7/42
, H01J11/02
, H01L21/027
FI (3件):
G03F7/42
, H01J11/02 B
, H01L21/30 572B
Fターム (7件):
2H096AA27
, 2H096AA28
, 2H096LA03
, 5C027AA09
, 5C040GF19
, 5C040JA17
, 5F046MA02
引用特許:
審査官引用 (8件)
-
レジスト剥離液組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-246712
出願人:東京応化工業株式会社
-
リブ形成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-227519
出願人:日本合成化学工業株式会社
-
パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-366279
出願人:日本合成化学工業株式会社
全件表示
前のページに戻る