特許
J-GLOBAL ID：200903058702165265
ネガ型感光性組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-353340
公開番号（公開出願番号）：特開平5-165218
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 半導体集積回路、フォトマスク、フラットパネルディスプレイ等のパターン形成に用いられるアルカリ現像型のネガ型感光性組成物を提供すること。特にリフトオフ法によるパターン形成用ネガ型レジストとして好適な感光性組成物を提供すること。【構成】 (A)光線による露光、または露光と引き続く熱処理によって架橋する成分、(B)アルカリ可溶性樹脂、および(C)露光する光線を吸収する化合物を少なくとも一種含有し、かつ、アルカリ性水溶液を現像液とすることを特徴とするネガ型感光性組成物。
請求項（抜粋）：
(A)光線による露光、または露光と引き続く熱処理によって架橋する成分、(B)アルカリ可溶性樹脂、および(C)露光する光線を吸収する化合物を少なくとも一種含有し、かつ、アルカリ性水溶液を現像液とすることを特徴とするネガ型感光性組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/027
, G03F 7/028
, G03F 7/26 513
, H01L 21/027
