光記録媒体及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-225240
公開番号（公開出願番号）：特開平11-066618
出願日： 1997年08月21日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：

【要約】【課題】短波長の光学系に対応可能とし、光学系の高開口数化にも対応可能として高記録密度化を可能とし、エラーレートを低くして再生特性を良好とする。【解決手段】基板1の一主面1a側に、少なくとも紫外線硬化型樹脂層を含み、厚さが10(μm)〜177(μm)とされる光透過層4を形成し、この光透過層4側から光を照射してデータの記録及び/又は再生を行う場合に、上記紫外線硬化型樹脂層に含まれるダストの粒径をr(μm)(ただし、r>0.5)とし、各粒径のダストの個数をNrとし、記録されるデータの容量をC(byte)とし、トラックピッチと線密度から算出されるデータ1ビットあたりの面積をS(μm2 )(ただし、S≦0.058)としたときに、所定の関係を満たすようにする。上記光透過層4は、基板1上に配された紫外線硬化型樹脂層と光透過性フィルムにより形成されても良い。

請求項（抜粋）：

基板の一主面側に少なくとも紫外線硬化型樹脂層を含む厚さ10(μm)〜177(μm)の光透過層が形成されてなり、この光透過層側から光が照射されてデータの記録及び/又は再生が行われる光記録媒体において、上記紫外線硬化型樹脂層に含まれるダストの粒径をr(μm)(ただし、r>0.5)とし、各粒径のダストの個数をNrとし、記録されるデータの容量をC(byte)とし、トラックピッチと線密度から算出されるデータ1ビットあたりの面積をS(μm2 )(ただし、S≦0.058)としたときに、下記数1に示すような関係が成り立つことを特徴とする光記録媒体。【数1】

IPC (2件)：

G11B 7/24 535 , G11B 7/26 531

FI (2件)：

G11B 7/24 535 A , G11B 7/26 531

引用特許：

審査官引用 (3件)

光デイスク原盤及びその作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-354469 出願人：ソニー株式会社
特開昭64-010443
特開昭64-010443

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