特許
J-GLOBAL ID：200903058706741546
反射型レチクル及び反射型レチクルの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-020026
公開番号（公開出願番号）：特開2007-201306
出願日： 2006年01月30日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
【課題】 線幅制御性に優れ、製作コストを低減可能なEUV露光装置用の反射型レチクルを提供する。【解決手段】 極端紫外光を反射する多層膜ミラー6表面に第1の吸収体8をパターン状に形成した反射型レチクル2において、該レチクルの表面の一部に前記極端紫外光の反射率を調整する反射率調整手段10を備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
極端紫外光を反射する多層膜ミラー表面に第1の吸収体をパターン状に形成した反射型レチクルにおいて、
該レチクルの表面の一部に前記極端紫外光の反射率を調整する反射率調整手段を備えることを特徴とする反射型レチクル。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, G03F 7/20
H01L21/30 531A
, G03F1/16 A
, G03F7/20 521
2H095BA03
, 2H095BA10
, 2H095BC05
, 5F046GA03
, 5F046GB01
, 5F046GD10
