特許
J-GLOBAL ID：200903058708168100
マスクユニットおよびそれを用いた成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-143032
公開番号（公開出願番号）：特開2004-346356
出願日： 2003年05月21日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：
【課題】成膜時にパターン形成用マスクと基板に蒸着源やプラズマ放電による熱が伝わりにくくして、熱膨張による寸法変動に起因するパターンの精度低下やボケの発生を防止し、基板上に微細なパターンを形成可能なマスクユニットおよびそれを用いた成膜装置を提供する。【解決手段】基板ホルダー9上に保持された基板10の上面に密着して配設され、所定のパターン開口部12を有するパターン形成用マスク11と、このパターン形成用マスク11よりも所定寸法だけ大きいパターン開口部23を有する遮蔽マスク22とを含み、遮蔽マスク22とパターン形成用マスク11との間に所定の間隙を設けて、パターン形成用マスク11と遮蔽マスク22とが基板10上に保持された構成からなる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板ホルダー上に保持された基板の膜形成面に密接して配設され、所定のパターン開口部を有するパターン形成用マスクと、
前記パターン形成用マスク上方に前記パターン開口部よりも開口面積が大きいパターン開口部を有する遮蔽マスクとを含み、
前記遮蔽マスクと前記パターン形成用マスクとの間に所定の間隙を有して前記パターン形成用マスクと前記遮蔽マスクとが前記基板上に保持されたことを特徴とするマスクユニット。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029CA05
, 4K029HA02
, 4K029HA03
