特許
J-GLOBAL ID:200903058734004298

光学素子および光学素子の照明方法並びに投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 純之助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-326474
公開番号(公開出願番号):特開平6-177018
出願日: 1992年12月07日
公開日(公表日): 1994年06月24日
要約:
【要約】【目的】 半導体パタンの転写に用いる、解像力を増加させた反射型マスク等の光学素子を得る。【構成】 隣接または近接する高反射領域パタンの反射ビームの位相を反転するように、多層膜22および221形成の材料膜厚を調節し、多層膜22および221形成の積層順を逆にする。
請求項(抜粋):
基板上に、真空紫外線またはX線に対し光学定数が異なる少なくとも2種類の物質を交互に積層した多層膜を形成し、真空紫外線またはX線に対し相対的に反射率が高い領域と反射率が低い領域とを、所定のパタンに応じて上記多層膜に配置した光学素子において、隣接または近接する反射率が高い領域におけるパタンの多層膜は、該多層膜を形成する物質の形成順を逆にした構造であることを特徴とする光学素子。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 1/16
FI (2件):
H01L 21/30 331 M ,  H01L 21/30 331 A

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