特許
J-GLOBAL ID:200903058743007909
赤外線検出器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三澤 正義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-112763
公開番号(公開出願番号):特開2000-304603
出願日: 1999年04月20日
公開日(公表日): 2000年11月02日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、製造工程の単純化や低コスト化、製造時間の短縮や高歩留まり化が可能な赤外線検出器を提供する。【解決手段】 基板1上には、赤外線反射膜2と赤外線吸収効果を有する絶縁性支持構造体層3とが積層され、また感熱抵抗体膜5および電極4が形成される。さらに、絶縁性支持構造体層9は基板1の全面に形成される。絶縁性支持構造体層3、9には開口部6が形成され、開口部6からの異方性エッチングによって空洞部8が形成される。絶縁性支持構造体層3、9は、成膜中の基板温度を室温以上400 ゚C以下に保持し、アルゴンと窒素の混合ガス中で0.7Pa以上1Pa以下の圧力でシリコンターゲットを反応性スパッタリングすることによって形成されるアモルファス窒化シリコン膜であり、その合計膜厚は1μm以上4μm以下である。
請求項(抜粋):
赤外線吸収効果を有する支持構造体層によって構成される赤外線検出素子と、この赤外線検出素子が形成される基板とを備えた熱分離構造の赤外線検出器において、前記赤外線検出素子の赤外線入射面とは反対側の面に赤外線反射膜が形成され、前記支持構造体層は、反応性スパッタリング法によって形成された少なくとも1層の窒化シリコン膜を含み、前記窒化シリコン膜の厚さが合計1μm以上4μm以下であることを特徴とする赤外線検出器。
IPC (3件):
G01J 1/02
, H01L 31/02
, H01L 37/00
FI (3件):
G01J 1/02 C
, H01L 37/00
, H01L 31/02 A
Fターム (13件):
2G065AB02
, 2G065BA12
, 2G065BA14
, 2G065DA20
, 5F088AA20
, 5F088AB01
, 5F088BA18
, 5F088CB07
, 5F088CB18
, 5F088DA17
, 5F088GA03
, 5F088HA09
, 5F088LA01
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