特許

J-GLOBAL ID：200903058744917011

磁性材料のドライエッチング方法

発明者： 小平 吉三 ,  廣見 太一
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (4件)： 鈴木 正次 ,  涌井 謙一 ,  山本 典弘 ,  鈴木 一永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-201254
公開番号（公開出願番号）：特開2005-042143
出願日： 2003年07月24日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：

【課題】非有機材料からなるマスク材を用いて磁性材料をエッチングする場合に、アフターコロージョン処理、エッチング装置に対する耐腐食性対策が不要で、磁気特性を劣化させてしまうエッチングダメージを減少させることができるドライエッチング方法を提案する。【解決手段】エッチングガスとして水酸基を少なくとも一つ以上持つアルコ-ルを用い、当該エッチングガスのプラズマを形成し、非有機系材料からなるマスク材を用いて磁性材料をドライエッチングする方法。水酸基を一つ持つアルコ-ルがエッチングガスとして用いられる場合、当該エッチングガスは、メタノール(CH3OH)、エタノール(C2H5OH)、プロパノール(C3H7OH)からなる群より選ばれたアルコールである。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

エッチングガスとして水酸基を少なくとも一つ以上持つアルコ-ルを用い、当該エッチングガスのプラズマを形成し、非有機系材料からなるマスク材を用いて磁性材料をドライエッチングする方法。

IPC (4件)：

C23F4/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L43/08 ,  H01L43/12

FI (4件)：

C23F4/00 A ,  H01L43/08 Z ,  H01L43/12 ,  H01L21/302 104C

Fターム (10件)：

4K057DB01 ,  4K057DC10 ,  4K057DE14 ,  4K057DE20 ,  4K057DN10 ,  5F004AA06 ,  5F004BA20 ,  5F004DA00 ,  5F004DB29 ,  5F004EA05