特許
J-GLOBAL ID：200903058749011819
レジスト除去方法およびレジスト剥離液
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-190352
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043857
出願日： 1995年07月26日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：
【要約】【課題】精度の高いレジスト除去を行えるようにする。【解決手段】基板A上に塗布したレジストを剥離液1で溶解させたのち、基板Aを、レジストおよび剥離液1に対して溶解性を有する超臨界流体4で洗浄する。
請求項（抜粋）：
基板上に塗布したレジストを剥離液で溶解させたのち、前記基板を、レジストおよび剥離液に対して溶解性を有する超臨界流体で洗浄することを特徴とするレジスト除去方法。
IPC (4件)：
G03F 7/42
, G03F 7/32
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
G03F 7/42
, G03F 7/32
, H01L 21/304 341 L
, H01L 21/30 572 B
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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