特許
J-GLOBAL ID:200903058756968142

写真材料に使用するための新規なコア-シェルラテックス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安達 光雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-216656
公開番号(公開出願番号):特開平8-076309
出願日: 1995年08月01日
公開日(公表日): 1996年03月22日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】良好な耐引掻性を有し、高濃度でゼラチン系層中に混入できる新種のラテックスを含有する写真材料を提供する。【解決手段】支持体、下塗層、少なくとも一つの親水性ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤層、所望により一つ以上の他の親水性ゼラチン系層、及びコア(コ)ポリマー及びシェル(コ)ポリマーを含むコア-シェルラテックスポリマーを含む写真材料であって、(i) 前記コア-シェルラテックスが、前記親水性ゼラチン系層の少なくとも一つの中に存在する、(ii)前記シェル(コ)ポリマーが、反応性メチレン基を有する少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーから誘導された成分Aを含む、そして成分Aが、コア及びシェル(コ)ポリマーの両者中に存在する全成分の1〜30重量%を構成しかつシェル(コ)ポリマー中に存在する全成分の2〜50重量%を構成する。
請求項(抜粋):
支持体、下塗層、少なくとも一つの親水性ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤層、所望により一つ以上の他の親水性ゼラチン系層、及びコア(コ)ポリマー及びシェル(コ)ポリマーを含むコア-シェルラテックスポリマーを含有する写真材料において、(i) 前記コア-シェルラテックスが、前記親水性ゼラチン系層の少なくとも一つの中に存在し、(ii)前記シェル(コ)ポリマーが、反応性メチレン基を有する少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマーから誘導された成分Aを含有し、(iii) 前記シェル(コ)ポリマー中に存在する前記成分Aが、前記コア及び前記シェル(コ)ポリマーの両者中に存在する全成分の1〜30重量%を構成し、(iv)前記シェル(コ)ポリマー中に存在する前記成分Aが、前記シェル(コ)ポリマー中に存在する全成分の2〜50重量%を構成することを特徴とする写真材料。
IPC (4件):
G03C 1/04 501 ,  G03C 1/053 ,  G03C 1/76 501 ,  G03C 1/76 502
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開平2-024649
  • 特開昭61-256344
  • 特開2042-110247

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