特許

J-GLOBAL ID：200903058763160134

構造物の自己浄化、及び簡易浄化方法

発明者： 時田 基文
出願人/特許権者： 有限会社エスケイティ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-125209
公開番号（公開出願番号）：特開平11-276993
出願日： 1998年03月30日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 構造物における清掃には、人手と設備かかかる。特に、高層建物、鉄橋、テレビ塔などにおける外表面の清掃は高所作業でもあり、危険性が伴いかなりの労力を煩わしている。【解決手段】 構造物の自己浄化、及び簡易浄化方法であって、構造物を形成する素材の外表面に、光触媒性酸化チタン微細結晶と蓄水性物質シリコーン、シリカを組合わせた光触媒層1を担持させ、この素材外表面に光2、太陽光2aを照射する。

請求項（抜粋）：

構造物の自己浄化方法であって、構造物を形成する素材の外表面に、光触媒性酸化チタン微細結晶と蓄水性物質シリコーン、シリカを組合わせた光触媒層1を担持させ、この素材外表面に光2を照射することにより、該光触媒層1の表面は超親水化して、当該素材外表面に付看した汚染物を降雨により洗い流すことを可能にしてなることを特徴とする構造物の自己浄化方法。

IPC (6件)：

B05D 7/24 303 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D183/04

FI (7件)：

B05D 7/24 303 B ,  B05D 5/00 H ,  B05D 7/00 L ,  C09D 5/00 L ,  C09D 5/00 Z ,  C09D 7/12 Z ,  C09D183/04