特許

J-GLOBAL ID：200903058766435878

カバサイトタイプ分子篩、その合成、及びオキシジネートをオレフィンへ変換することにおけるそれらの使用

発明者： メルテンス、マクテルド・エム ,  カオ、グアング ,  リ、ハイリアン ,  グラム、アニル・エス ,  サクストン、ロバート・ジェイ ,  ムラオカ、マーク・ティー ,  ヨダー、ジェフリー・シー
出願人/特許権者： エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク
代理人 (8件)： 山崎 行造 ,  杉山 直人 ,  白銀 博 ,  赤松 利昭 ,  奥谷 雅子 ,  田坂 一朗 ,  星 貴子 ,  尾首 亘聰
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-547212
公開番号（公開出願番号）：特表2007-534582
出願日： 2004年12月20日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：

結晶物質、特にカバサイトタイプのフレームワークを有する高シリカゼオライトの合成は、AEIフレームワークタイプ物質の種を合成混合物に添加することにより行われた。このカバサイトタイプ生成物は相対的に小さな結晶サイズを有し、低級オレフィン、特にエチレン及びプロピレンへメタノールの変換において活性及び選択性を示す。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

CHAフレームワークタイプを有する結晶物質を合成する方法であって、 (a)CHAフレームワークタイプを有する前記結晶物質を形成することができる反応混合物を形成する工程であって、前記反応混合物がAEIフレームワークタイプを含む前記結晶物質の種を更に含む工程、及び (b)CHAフレームワークタイプを含む前記結晶物質を前記反応混合物から回収する工程とを含む方法。

IPC (6件)：

C01B 39/00 ,  C01B 39/02 ,  C01B 39/04 ,  C07C 11/04 ,  C07C 11/06 ,  C07C 1/24

FI (6件)：

C01B39/00 ,  C01B39/02 ,  C01B39/04 ,  C07C11/04 ,  C07C11/06 ,  C07C1/24

Fターム (28件)：

4G073BA11 ,  4G073BA36 ,  4G073BA58 ,  4G073BA59 ,  4G073BA60 ,  4G073BA64 ,  4G073BA65 ,  4G073BA68 ,  4G073BB42 ,  4G073BB48 ,  4G073BB58 ,  4G073CZ01 ,  4G073CZ21 ,  4G073CZ51 ,  4G073FB02 ,  4G073FB41 ,  4G073FC01 ,  4G073GA03 ,  4G073UA03 ,  4H006AA02 ,  4H006AC29 ,  4H006BA71 ,  4H006BA81 ,  4H006BA85 ,  4H006DA25 ,  4H006DA44 ,  4H039CA20 ,  4H039CE90

引用特許：

審査官引用 (4件)

• モレキュラーシーブ及びその製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-515316   出願人：エクソンケミカルパテンツインコーポレイテッド
• 結晶性分子ふるい
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-562306   出願人：エクソンケミカルパテンツインコーポレイテッド
• 低鋳型性のクラスラシル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-041235   出願人：メルクパテントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフトング
• 分子ふるいの製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-562305   出願人：エクソンケミカルパテンツインコーポレイテッド

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Systematic relationships between the structures of CHA, AEI and KFI