特許
J-GLOBAL ID:200903058777334267

合成高分子ゲルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-265123
公開番号(公開出願番号):特開2004-099789
出願日: 2002年09月11日
公開日(公表日): 2004年04月02日
要約:
【課題】従来のゲル化で使用していた架橋剤や低温レドックス開始剤の還元剤を使用せず、例えば乳化重合において乳化状態に悪影響を与えず、なおかつ簡便に架橋合成高分子を形成できる水性ゲルの製造方法を提供する。【解決手段】過硫酸塩と、アクリロイル構造を有する化合物から選択される少なくとも一種の水溶性ビニルモノマーとを含有する水溶液を調製し、次いで、当該水溶液に紫外線を照射することを含むことを特徴とする合成高分子ゲルの製造方法。前記水溶液が水と混和しない媒体に乳化されたエマルションを調製することを更に含む前記方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
過硫酸塩と、アクリロイル構造を有する少なくとも一種の水溶性ビニルモノマーとを含有する水溶液を調製し、次いで、当該水溶液に紫外線を照射してゲル化することを含む、合成高分子ゲルの製造方法。
IPC (4件):
C08F2/18 ,  A61K7/00 ,  C08F2/44 ,  C08F2/46
FI (4件):
C08F2/18 ,  A61K7/00 R ,  C08F2/44 Z ,  C08F2/46
Fターム (32件):
4C083AD09 ,  4C083DD41 ,  4C083FF01 ,  4J011AA05 ,  4J011JB04 ,  4J011JB22 ,  4J011JB26 ,  4J011PA03 ,  4J011PA07 ,  4J011PA08 ,  4J011PA29 ,  4J011PA60 ,  4J011PA64 ,  4J011PA66 ,  4J011PA96 ,  4J011PA99 ,  4J011PB06 ,  4J011PB14 ,  4J011PB25 ,  4J011PC02 ,  4J011PC07 ,  4J011QA02 ,  4J011QA03 ,  4J011QA06 ,  4J011QA07 ,  4J011QA34 ,  4J011SA76 ,  4J011UA01 ,  4J011VA02 ,  4J011VA10 ,  4J011WA09 ,  4J011WA10
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭61-296003
  • 特開昭61-087702

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