特許

J-GLOBAL ID：200903058801397917

露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

発明者： 中野 勝志
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-364392
公開番号（公開出願番号）：特開2007-116073
出願日： 2005年12月19日
公開日（公表日）： 2007年05月10日
要約：

【課題】液体を介して基板を露光する液浸露光において、露光不良の発生を抑制し、基板を良好に露光することができる露光方法を提供する。【解決手段】液体を介して基板を露光する液浸露光において、基板の表面に対する異物の付着を抑えるために、基板の表面エネルギーを調整する所定の処理を行う工程と、表面エネルギーが調整された基板の表面に露光光を照射する工程と、を含む露光方法を提供する。また、基板の基材上に反射防止膜を形成した後、反射防止膜上にHMDS層を形成して、表面エネルギーを調整することにより異物の付着を抑制することができる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

液体を介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光方法において、 前記基板の表面に対する異物の付着を抑えるために、前記基板の表面エネルギーを調整するための所定の処理を行う工程と、 前記調整された前記基板の表面に前記露光光を照射する工程と、を含む露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/11

FI (5件)：

H01L21/30 515D ,  H01L21/30 563 ,  H01L21/30 503G ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/11 501

Fターム (21件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD05 ,  2H025DA01 ,  2H025DA03 ,  2H025FA03 ,  2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096DA04 ,  2H096DA10 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  5F046AA17 ,  5F046AA26 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046HA01 ,  5F046HA07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 国際公開第99/49504号パンフレット