特許
J-GLOBAL ID：200903058809884825
平面ラップ/ポリッシュ盤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森田 雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-321633
公開番号（公開出願番号）：特開2000-141212
出願日： 1998年11月12日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：
【要約】【課題】 加工終了時に上定盤に貼り付いたワークを剥がすための従来装置は、大がかりであり、しかも加工精度も低下させる場合があった。【解決手段】 ワーク16の加工停止時に、リフトがワークキャリア17の厚み未満である上定盤微小上昇シリンダ3を作動させて上定盤14を上昇させる。次いで上定盤14が上昇している間に、上定盤14と下定盤20の間にスラリまたはリンスを注入する。さらに、この状態で、上定盤14を微小回転させることで、ワーク16を確実に上定盤14から剥がす。
請求項（抜粋）：
ワークキャリアを形成した遊星ギアを中心ギアとインターナルギアの間に噛合した状態で遊星ギアと中心ギアを相対的に回転駆動してワークキャリアを遊星運動させかつワークキャリア上下面を上定盤と下定盤とで挟圧しながら両定盤を回転駆動することでワークキャリアに保持されているワークをラッピングまたはポリッシングする平面ラップ/ポリッシュ盤において、リフトをワークキャリアの厚み未満として加工停止時に上定盤を上昇させる上定盤上昇手段と、この上定盤上昇手段により上定盤が上昇している間に、上定盤と下定盤の間にスラリまたはリンスを注入する注入手段と、を備えたことを特徴とする平面ラップ/ポリッシュ盤。
Fターム (14件)：
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AA14
, 3C058AA16
, 3C058AB04
, 3C058AB06
, 3C058AC04
, 3C058BC02
, 3C058CB01
, 3C058CB02
, 3C058CB03
, 3C058DA06
, 3C058DA09
, 3C058DA18
