特許

J-GLOBAL ID：200903058811711938

プラズマエッチング装置

発明者： 豊田 一行 ,  田中 勉 ,  鈴木 貞之
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-309813
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142453
出願日： 1993年11月16日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】プラズマエッチング装置に於いて、反応ガスの解離が著しく進行するのを抑制し、エッチングに適正なプラズマ状態を実現する。【構成】プラズマ発生用コイルに高周波電力を印加してプラズマを発生させ、プラズマのラジカルによりエッチングを行うプラズマエッチング装置に於いて、前記プラズマ発生用コイルに高周波電力をパルス状に印加し、ガスの解離状態が著しく進行するのを抑制する。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生用コイルに高周波電力を印加してプラズマを発生させ、プラズマのラジカルによりエッチングを行うプラズマエッチング装置に於いて、前記プラズマ発生用コイルに高周波電力をパルス状に印加する様構成したことを特徴とするプラズマエッチング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 C

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平4-355915
  
• プラズマ処理装置およびその制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-284210   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開昭61-149486
  
• 特開平4-355915
  
• 特開昭61-149486