特許

J-GLOBAL ID：200903058821392946

レーザプラズマX線発生装置

発明者： 後藤 哲男
出願人/特許権者： 有限会社サイファー社
代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-311277
公開番号（公開出願番号）：特開2001-135877
出願日： 1999年11月01日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】 ターゲット材から飛散した高速の微粒子によりX線光学素子が損傷を受けることなく、かつ、高繰返しでも連続して安定した高い平均出力のレーザプラズマX線を発生することができる。【解決手段】 レーザプラズマを生成する主パルスレーザ光が主パルスレーザ発生装置121から集光照射点110に集光照射された際にターゲットから放出されたターゲット材112の破片微粒子を、蒸散用パルスレーザ発生装置131が生成する蒸散用パルスレーザ光の照射により加熱し、破片微粒子を蒸発・気化させている。蒸散用パルスレーザ光の照射は制御装置125により主パルスレーザ発生装置121と同期して時間的に調整されている。更に、破片微粒子が放出される領域を照明光源141が照射し、この照明を受けて検出器143が破片微粒子の発生を検出して制御装置125へ通知している。

請求項（抜粋）：

固体または液体の物質をターゲットとしてこれに高尖頭パワーを有する繰り返しパルスレーザ光を集中照射して生じたプラズマからレーザプラズマX線を発生するレーザプラズマX線発生装置において、プラズマを発生させる前記パルスレーザ光を主パルスレーザ光として発生する主パルスレーザ発生装置と、ターゲット表面から放出されるターゲット材微粒子を加熱して蒸発気化させる蒸散用パルスレーザ光を発生する蒸散用パルスレーザ発生装置と、前記主パルスレーザ光に対し時間的に遅延して前記ターゲットの集光照射された表面近傍を通過する前記ターゲットを避けた光路に、前記蒸散用パルスレーザ光を導光し前記表面近傍に向けて集光する光学系部材と、前記蒸散用パルスレーザ発生装置に通知して導光される前記蒸散用パルスレーザ光の遅延時間、パルス時間幅、およびパルスエネルギーを調整する制御装置とを備えることを特徴とするレーザプラズマX線発生装置。

IPC (4件)：

H01S 3/00 ,  H01S 3/10 ,  H05G 2/00 ,  H05G 1/02

FI (4件)：

H01S 3/00 A ,  H01S 3/10 A ,  H05G 1/02 ,  H05G 1/00 K

Fターム (13件)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB21 ,  5F072HH07 ,  5F072JJ03 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK30 ,  5F072MM17 ,  5F072RR01 ,  5F072RR07 ,  5F072SS06 ,  5F072YY20