特許
J-GLOBAL ID：200903058840791649
真空浸炭方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-330688
公開番号（公開出願番号）：特開平6-172960
出願日： 1992年12月10日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：
【要約】【目的】真空浸炭炉内における煤の発生・付着を簡単な方法で極力減少させることが可能な真空浸炭方法を提供する。【構成】被浸炭材Wの浸炭期に、炭化水素系ガスと空気とを一定の範囲内の比率で混合した浸炭性ガスを、真空加熱炉11の加熱室2に導入する。
請求項（抜粋）：
減圧下の加熱雰囲気内に浸炭性ガスを導入して、被浸炭材に浸炭処理を行う真空浸炭方法において、前記被浸炭材の浸炭期に、炭化水素系ガスと空気とを一定の範囲内の比率で混合した浸炭性ガスを導入することを特徴とする真空浸炭方法。
引用特許：
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