特許
J-GLOBAL ID：200903058846020512
多孔質炭化けい素焼結体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-169819
公開番号（公開出願番号）：特開平5-319950
出願日： 1992年05月20日
公開日（公表日）： 1993年12月03日
要約：
【要約】【目的】 従来の炭化けい素触媒担体にない高い比表面積を持つ多孔質炭化けい素焼結体の製造方法を提供する。【構成】 炭素質物質を吸着させたシリカゲルからなる成形体は、炭素源である炭素質物質をけい素源であるシリカゲルの細孔内に均一にかつ微細に分散したものであり、この成形体を焼成することによって高い比表面積を持つ多孔質炭化けい素焼結体を製造することができる。
請求項（抜粋）：
シリカゲルの細孔中に加熱によって炭素に変化する炭素質物質をC/S102のモル比で3〜5になる比率で吸着させ、このシリカゲルと炭素質物質からなる気孔率10〜30%の成形体を非酸化性雰囲気中1700〜2000°Cで焼成することによって、該成形体の形状を維持したまま比表面積5〜30m2/gの炭化けい素焼結体を得ることを特徴とする多孔質炭化けい素焼結体の製造方法。
IPC (2件)：
C04B 38/00 304
, C04B 38/06
