特許
J-GLOBAL ID：200903058848896156
薄膜形成装置および薄膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-203650
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050687
出願日： 1996年08月01日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：
【要約】【課題】大面積に均一な膜厚で、高品質でかつ界面特性の良好な薄膜を形成可能な薄膜形成装置を提供すること。【構成】混合することによって自発的に反応する複数のガスを真空容器 1の同一空間に導入する独立した複数の導入口 6,7と、気体の導入時に真空容器の圧力を10Pa以下に保つ機構と、気体を電磁波による放電または光によって励起する機構 5と、真空容器に設定以上の流量の気体が導入されることを防止する機構10〜12, 10' 〜12' を具備する。また、気体を励起する手段として電磁波による放電を用いる場合、基板にバイアスをかける。
請求項（抜粋）：
真空容器と、この真空容器の同一空間に、混合することによって自発的に反応する気体を独立してそれぞれ導入するための複数の気体導入手段と、前記気体の導入時に前記真空容器の圧力を10Pa以下に保つ機構と、前記気体を電磁波による放電または光によって励起する手段と、を具備することを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/31 C
, H01L 21/316 X
