特許
J-GLOBAL ID:200903058849971364

ガス発生システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 古谷 聡 ,  溝部 孝彦 ,  西山 清春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-108621
公開番号(公開出願番号):特開2004-000950
出願日: 2003年04月14日
公開日(公表日): 2004年01月08日
要約:
【課題】泡立ちを最小限にしつつ、水素を効率的に供給可能なガス発生システムの提供。【解決手段】ガス発生システムは、液体/気体分離器116と一体化された化学反応器102を含む。この反応器102は、金属水素化物の水溶液の連続流を受容するように構成される。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
化学反応器(102)と、 前記化学反応器と一体化された液体/気体分離器(116)とからなり、 前記化学反応器(102)が、水溶液の連続流を受容するように構成されてなる、ガス発生システム(100)。
IPC (6件):
B01J7/02 ,  B01D19/00 ,  B01D61/00 ,  B01J19/24 ,  C01B3/06 ,  H01M8/04
FI (6件):
B01J7/02 Z ,  B01D19/00 H ,  B01D61/00 ,  B01J19/24 A ,  C01B3/06 ,  H01M8/04 J
Fターム (36件):
4D006GA01 ,  4D006GA32 ,  4D006KA01 ,  4D006KA72 ,  4D006KB30 ,  4D006MB09 ,  4D006MB10 ,  4D006PA10 ,  4D006PB12 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4D011AA17 ,  4D011AC04 ,  4D011AD03 ,  4G068DA01 ,  4G068DB08 ,  4G068DB20 ,  4G068DC01 ,  4G068DD11 ,  4G075AA15 ,  4G075BA10 ,  4G075BB05 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EB21 ,  4G075EC06 ,  4G075EE12 ,  4G075FA02 ,  4G075FA03 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB12 ,  4G075FC02 ,  5H027AA06 ,  5H027BA14 ,  5H027BA16
引用特許:
審査官引用 (2件)

前のページに戻る