特許
J-GLOBAL ID:200903058849971364
ガス発生システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
古谷 聡
, 溝部 孝彦
, 西山 清春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-108621
公開番号(公開出願番号):特開2004-000950
出願日: 2003年04月14日
公開日(公表日): 2004年01月08日
要約:
【課題】泡立ちを最小限にしつつ、水素を効率的に供給可能なガス発生システムの提供。【解決手段】ガス発生システムは、液体/気体分離器116と一体化された化学反応器102を含む。この反応器102は、金属水素化物の水溶液の連続流を受容するように構成される。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
化学反応器(102)と、
前記化学反応器と一体化された液体/気体分離器(116)とからなり、
前記化学反応器(102)が、水溶液の連続流を受容するように構成されてなる、ガス発生システム(100)。
IPC (6件):
B01J7/02
, B01D19/00
, B01D61/00
, B01J19/24
, C01B3/06
, H01M8/04
FI (6件):
B01J7/02 Z
, B01D19/00 H
, B01D61/00
, B01J19/24 A
, C01B3/06
, H01M8/04 J
Fターム (36件):
4D006GA01
, 4D006GA32
, 4D006KA01
, 4D006KA72
, 4D006KB30
, 4D006MB09
, 4D006MB10
, 4D006PA10
, 4D006PB12
, 4D006PB66
, 4D006PC80
, 4D011AA17
, 4D011AC04
, 4D011AD03
, 4G068DA01
, 4G068DB08
, 4G068DB20
, 4G068DC01
, 4G068DD11
, 4G075AA15
, 4G075BA10
, 4G075BB05
, 4G075CA54
, 4G075DA02
, 4G075EB21
, 4G075EC06
, 4G075EE12
, 4G075FA02
, 4G075FA03
, 4G075FB02
, 4G075FB04
, 4G075FB12
, 4G075FC02
, 5H027AA06
, 5H027BA14
, 5H027BA16
引用特許:
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