特許
J-GLOBAL ID：200903058865186103
リソグラフィック装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
吉武 賢次
, 橘谷 英俊
, 佐藤 泰和
, 吉元 弘
, 川崎 康
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-536823
公開番号（公開出願番号）：特表2005-505945
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：
放射線源(LA)或いは基板(W)上のレジスト(RL)からのデブリを捕捉するための汚染物トラップ(10)を備えるリソグラフィック投影(露光)装置が開示される。この汚染物トラップ(10)は、投影光線(PB)の光学軸の回りにそれらの間に空間(13)が形成されるように放射状に配置された2つのセット(11、12)のチャネル(20、21:30、31)から構成される。この空間内にガスが供給される。チャネルのフロー抵抗により、トラップ(10)の外側のガス圧が内側のガス圧よりも非常に低くなることが確保される。
請求項（抜粋）：
放射線の投影光線を供給するための放射線系と、
前記投影光線を所望のパターンに従ってパターニングする機能を有するパターニング手段を支えるための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターニングされた光線を前記基板のターゲット部分上に投影するための投影系と、
前記放射線系、前記支持構造、前記基板及び前記投影系の少なくとも一つの少なくとも一部を包囲する少なくとも一つのチャンバと、
前記投影光線の経路内に配置された汚染物トラップと、を備えるリソグラフィック投影装置であって、
前記汚染物トラップが前記投影光線の伝播方向に対して実質的に平行に、かつ、前記投影光線の光学軸に沿って互いに離して配置された少なくとも2つのセットのチャネルと、これら2つのセットのチャネル間の空間内にフラッシングガスを供給するための手段と、を含むことを特徴とする装置。
IPC (4件)：
H01L21/027
, G03F7/20
, G21K5/00
, G21K5/02
H01L21/30 531S
, G03F7/20 503
, G21K5/00 Z
, G21K5/02 X
2H097CA01
, 2H097LA10
, 5F046GB09
, 5F046GC03
