特許
J-GLOBAL ID：200903058865755140
基板洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-126709
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307492
出願日： 1998年04月20日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 基板の面内における洗浄能力のバラツキを抑えること。【解決手段】 ノズル3のスキャン速度を、ウエハ周縁部A,Bからウエハ中心部Oに向かって徐々に速くなり、ウエハ中心部Oで最も速くなった後、反対側のウエハ周縁部B,Aに向かって徐々に遅くなるように制御することによって、単位面積当たりの洗浄時間をウエハWの面内全体に亘ってほぼ一定とし、ウエハW面内における洗浄能力のバラツキを抑える。例えばウエハ中心位置Oと洗浄位置Pとの間の距離をr、ウエハ中心位置Oにおけるスキャン速度をv0 とすると、洗浄位置Pにおけるノズル3のスキャン速度v1 は式:v1 =v0 /rで表される。
請求項（抜粋）：
基板を保持して基板の面に沿って回転させる基板保持部と、この基板保持部に保持された基板の被洗浄面を洗浄する洗浄部と、前記洗浄部を保持して移動させる移動機構と、前記洗浄部が基板の中央部を通過した後、基板の周縁部に向かうにつれて洗浄部のスキャン速度が小さくなるように前記移動機構を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 643
, H01L 21/304
, B08B 3/02
H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 643 D
, B08B 3/02 B
