特許

J-GLOBAL ID：200903058878118964

高周波インダクタの製造方法

発明者： 木下 欣也 ,  石田 修一 ,  西山 茂 ,  小林 清一 ,  坂倉 光男
出願人/特許権者： 東光株式会社
代理人 (1件)： 大田 優
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-196025
公開番号（公開出願番号）：特開平9-027434
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：

【要約】【目的】 精度のよい導体パターンを形成して公差の小さい積層インダクタを得るとともに、導体膜厚を大きくしてQを向上させる。【構成】 感光性導体ペーストを用いて絶縁体を挟んで、二つの平行な導体パターンの端部を接続して絶縁体の上下に周回するインダクタ用導体パターンを、感光性導体ペーストの塗布、露光、現像によって形成する。絶縁体を磁性体としてインダクタンスを大きくすることもできる。

請求項（抜粋）：

絶縁基板上に複数の平行な第一の導体パターンを形成し、それらの端部を除いて絶縁体で覆い、隣合う導体パターンの端部同士を接続する複数の平行な第二の導体パターンを形成する高周波インダクタの製造方法において、感光性導体ペーストを用いて導体パターンを形成し、導体パターンの端部をそれぞれ端子電極に接続することを特徴とする高周波インダクタの製造方法。