特許

J-GLOBAL ID：200903058890520786

研磨装置

発明者： 左光 大和 ,  関 正也 ,  久保 富美夫
出願人/特許権者： 株式会社岡本工作機械製作所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-104654
公開番号（公開出願番号）：特開2000-296460
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 基板の保持が容易で、表面平坦性に優れる基板を与える研磨装置の提供。【解決手段】 回転する駆動軸に軸承されたプラテンに貼付されている研磨布表面に、キャリアに保持された基板を研磨布上方より押し当てて基板と研磨布を擦動させて基板の表面を研磨する装置であって、前記基板を保持するキャリアは、中空軸に軸承された円筒状ヘッド下端に固定された円盤状の取付板に下記の物性を有するポリシリコンゲルシ-トが取り付けられたものであることを特徴とする研磨装置。?@ 硬度(JIS K-2207:50g荷重の針入度 1/10mmが30〜200、?A 伸び(JIS A-5758)が100〜1000%、?B 厚みが1〜40mm、?C 圧縮永久歪み(JIS K-6301に準拠:75%圧縮させて70°Cで22時間保持させた後、圧縮を解放し23°Cの恒温室室で30分経過後の残留歪み)が1〜8%のもの。

請求項（抜粋）：

回転する駆動軸に軸承されたプラテンに貼付されている研磨布表面に、キャリアに保持された基板を研磨布上方より押し当てて基板と研磨布を摺動させて基板の表面を研磨する装置であって、前記基板を保持するキャリアは、中空軸に軸承された円筒状ヘッド下端に固定された円盤状の取付板に下記の物性を有するポリシリコンゲルシ-トが取り付けられたものであることを特徴とする研磨装置。?@ 硬度(JIS K-2207:50g荷重の針入度 1/10mmが30〜200、?A 伸び(JIS A-5758)が100〜1000%、?B 厚みが1〜40mm、?C 圧縮永久歪み(JIS K-6301に準拠:75%圧縮させて70°Cで22時間保持させた後、圧縮を解放し23°Cの恒温室室で30分経過後の残留歪み)が1〜8%のもの。

IPC (8件)：

B24B 37/04 ,  C08J 7/04 CEQ ,  C08J 7/04 CER ,  C08K 3/04 ,  C08L101/16 ,  H01L 21/304 622 ,  C08J 9/32 CFH ,  C08L 83:04

FI (7件)：

B24B 37/04 H ,  C08J 7/04 CEQ L ,  C08J 7/04 CER L ,  C08K 3/04 ,  H01L 21/304 622 G ,  C08J 9/32 CFH ,  C08L101/00

Fターム (42件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA12 ,  3C058AB04 ,  3C058AC04 ,  3C058BA05 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  3C058CB04 ,  3C058CB10 ,  3C058DA17 ,  4F006AA42 ,  4F006AB05 ,  4F006AB13 ,  4F006AB14 ,  4F006AB18 ,  4F006AB23 ,  4F006BA11 ,  4F006BA12 ,  4F074AA90 ,  4F074BA84 ,  4F074CB61 ,  4F074CB62 ,  4F074CB83 ,  4F074DA08 ,  4F074DA09 ,  4F074DA56 ,  4F074DA59 ,  4J002AC091 ,  4J002BB031 ,  4J002BB061 ,  4J002BB071 ,  4J002BB151 ,  4J002BB181 ,  4J002BD031 ,  4J002BP011 ,  4J002CK021 ,  4J002DA036 ,  4J002DA066 ,  4J002DE046 ,  4J002FD016 ,  4J002FD116