特許
J-GLOBAL ID：200903058890560540
イオン注入機用プラテン
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-354118
公開番号（公開出願番号）：特開平10-177964
出願日： 1996年12月18日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：
【要約】【課題】イオン注入処理中にウェーハに発生する熱を十分に冷却してレジスト層を保護することができる上、イオン注入処理後にウェーハと熱伝導性シリコーンラバー表面が強固に密着することなく、安定して使用することのできるイオン注入機用プラテンを提供すること。【解決手段】プラテン用の金属製ベース上にシリコーンゴム層を設けたイオン注入用プラテン。前記シリコーンゴム層の熱伝導率は1.0×10-3cal/cm・sec・°C 以上である。また、シリコーンゴム層表面にはシボ模様が形成されている。
請求項（抜粋）：
プラテン用の金属製ベース上にシリコーンゴム層を設けたプラテンであって、該シリコーンゴム層の熱伝導率が1.0×10-3cal/cm・sec・°C 以上であると共に、該シリコーンゴム層表面にシボ模様が形成されてなることを特徴とするイオン注入機用プラテン。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/265 603 D
, C23C 14/50 D
