特許

J-GLOBAL ID：200903058894881236

シリル化された多孔質シリカの製造方法

発明者： 高 村 一 夫 ,  大 池 俊 輔 ,  窪 田 武 司 ,  蔵 野 義 人 ,  村 上 雅 美
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-034380
公開番号（公開出願番号）：特開2003-238140
出願日： 2002年02月12日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：

【要約】【解決手段】 界面活性剤とシロキサン化合物からなる有機-無機複合体に、有機ケイ素化合物を界面活性剤の存在下に反応させ、次いで界面活性剤を除去することを特徴とする、均一なメソ孔を有するシリル化された多孔質シリカの製造方法。【効果】 シリカのシラノール基が効率よくシリル化され、均一なメソ孔を有するシリル化された多孔質シリカが得られる。

請求項（抜粋）：

界面活性剤とシロキサン化合物からなる有機-無機複合体に、有機ケイ素化合物を界面活性剤の存在下に反応させ、次いで界面活性剤を除去することを特徴とする、均一なメソ孔を有するシリル化された多孔質シリカの製造方法。

Fターム (10件)：

4G072AA25 ,  4G072BB15 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH28 ,  4G072HH33 ,  4G072MM01 ,  4G072QQ06 ,  4G072UU11 ,  4G072UU17