特許

J-GLOBAL ID：200903058895501305

プラズマディスプレイパネルの製造方法および螢光体組成物

発明者： 増子 英明 ,  宇田川 忠彦 ,  根本 宏明 ,  別所 信夫
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-029044
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222134
出願日： 1995年02月17日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【目的】 螢光体層を大きい表面積を有するものとして形成することができ、高い表示輝度が得られるプラズマディスプレイパネルの製造方法およびこれに好適に用いられる螢光体組成物を提供すること。【構成】 製造方法は、基板の表面に隔壁によって区画された凹所内に螢光体組成物を充填して螢光体層を形成し、螢光体層の表面に感放射線性レジスト膜を形成し、フォトマスクを介して露光処理および現像処理を行うことにより螢光体層における表面の一部を露出させて現像用マスクを形成し、この現像用マスクの表面側から螢光体層の現像処理を行って基板の表面および隔壁の側面上に螢光体組成物の薄層を残存させる現像工程と、残存した螢光体組成物の薄層を加熱して硬化させる工程とを有する。螢光体組成物は、螢光体物質と、アルカリ可溶性樹脂よりなる熱硬化性バインダーと、ビヒクルとを含有してなる。

請求項（抜粋）：

基板の表面に隔壁によって区画された凹所が形成されると共に当該凹所内の基板の表面に電極が設けられてなる基板材料を用い、基板上の凹所内に螢光体組成物を充填して螢光体層を形成する工程と、この螢光体層の表面に感放射線性レジスト膜を形成し、部分的に放射線を照射する放射線照射処理および現像処理を行うことにより、感放射線性レジスト膜の一部を除去して前記螢光体層における表面の少なくとも一部を露出させて現像用マスクを形成する工程と、現像用マスクの表面側から現像液を作用させて前記螢光体層の現像処理を行うことにより、当該凹所に係る基板の表面および隔壁の側面上に螢光体組成物の薄層を残存させる現像工程と、螢光体組成物の薄層を焼成して有機物質を焼失させる工程と、を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。

IPC (3件)：

H01J 11/02 ,  H01J 9/227 ,  H01J 29/20

FI (3件)：

H01J 11/02 B ,  H01J 9/227 Z ,  H01J 29/20