特許
J-GLOBAL ID：200903058898298586
金属酸化物を用いた配線基板および情報記録媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-190036
公開番号（公開出願番号）：特開平5-037126
出願日： 1991年07月30日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 光もしくは熱の局所的な作用を利用した電子部品であって、小型軽量化された装置によって配線パターンが簡便に形成可能な配線基板、および記録層の成分組成制御が容易で安定な特性を有する情報記録媒体を提供する。【構成】 支持基体と、この支持基体面上に設けられた金属酸化物を主成分とする層とからなり、前記金属酸化物を主成分とする層の表面には、光もしくは熱の局所的な作用により選択的に還元されて析出した還元金属領域が形成されていることを特徴とする。金属酸化物層を、この金属酸化物の酸素原子と反応して酸化物を生成する還元性物質に接触させるとともに、前記金属酸化物層の所望の箇所に光もしくは熱を局所的に作用させることにより、前記金属酸化物層と前記還元性物質との界面において金属酸化物を還元し金属を析出させる。析出した還元金属領域を配線パターンとして利用することにより配線基板が、情報記録パターンとして利用することにより情報記録媒体が得られる。
請求項（抜粋）：
支持基体と、この支持基体面上に設けられた金属酸化物を主成分とする層とからなり、前記金属酸化物を主成分とする層の表面には、光もしくは熱の局所的な作用により選択的に還元されて析出した還元金属領域からなる配線パターンが形成されていることを特徴とする金属酸化物を用いた配線基板。
IPC (3件)：
H05K 3/10
, H01L 21/3205
, H05K 1/09
