特許
J-GLOBAL ID：200903058900845239
レーザ加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-006599
公開番号（公開出願番号）：特開平5-192779
出願日： 1992年01月17日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：
【要約】【目的】この発明は、多層膜構造の被加工物を効率よくレーザ加工することができるレーザ加工装置を提供することにある。【構成】レーザ発振器21から出力されたレーザ光を第1のレーザ光とこの第1のレーザ光よりも波長の短い第2のレーザ光に変調する変調手段と、第1のレーザ光と第2のレーザ光とを集光して被加工物8に照射する集光レンズ38と、この集光レンズと変調手段との間に設けられ第1のレーザ光を第2のレーザ光と異なる光路に導入してこの第1のレーザ光の集光レンズに至るまでの光路長を制御する光路補正ユニット29と、第1のレーザ光が上記集光光学系に到達する光量を制御する第1のポラライザ31と、第2のレーザ光が集光レンズ38に到達する光量を制御する第2のポラライザ35とを具備したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
レーザ発振器と、このレーザ発振器から出力されたレーザ光を第1のレーザ光とこの第1のレーザ光よりも波長の短い第2のレーザ光に変調する変調手段と、上記第1のレーザ光と第2のレーザ光とを集光して被加工物に照射する集光光学系と、この集光光学系と上記変調手段との間に設けられ上記第1のレーザ光を第2のレーザ光と異なる光路に導入してこの第1のレーザ光の上記集光光学系に至るまでの光路長を制御する光路補正手段と、上記第1のレーザ光の光路に設けられこの第1のレーザ光が上記集光光学系に到達する光量を制御する第1の光量制御手段と、上記第2のレーザ光の光路に設けられこの第2のレーザ光が上記集光光学系に到達する光量を制御する第2の光量制御手段とを具備したことを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (3件)：
B23K 26/00
, B23K 26/06
, H05K 3/46
