特許

J-GLOBAL ID：200903058926254328

アリール基含有シリコーンラテックスの製造方法

発明者： 藤井 秀幸 ,  福山 信光 ,  百瀬 陽
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228495
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048984
出願日： 1999年08月12日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】 高分子量で、かつ粒子径の制御されたアリール基含有ポリオルガノシロキサンのラテックスを生産性よく得る方法を提供すること。【解決手段】 末端に水酸基およびアルコキシ基から選ばれた置換基を有するアリール基含有直鎖状オルガノシロキサン、乳化剤、酸触媒および水からなる混合物を乳化して重合することを特徴とするアリール基含有シリコーンラテックスの製造方法。

請求項（抜粋）：

末端に水酸基およびアルコキシ基から選ばれた置換基を有するアリール基含有直鎖状オルガノシロキサン、乳化剤、酸触媒および水からなる混合物を乳化して重合することを特徴とするアリール基含有シリコーンラテックスの製造方法。

IPC (2件)：

C08G 77/06 ,  C08L 83/04

FI (2件)：

C08G 77/06 ,  C08L 83/04

Fターム (19件)：

4J002CP061 ,  4J002CP142 ,  4J002CP162 ,  4J002FD13 ,  4J002GH01 ,  4J002GT00 ,  4J035BA02 ,  4J035CA05U ,  4J035CA06U ,  4J035CA13M ,  4J035CA131 ,  4J035CA14M ,  4J035CA14N ,  4J035CA141 ,  4J035FB01 ,  4J035FB02 ,  4J035LA04 ,  4J035LA08 ,  4J035LB01