特許

J-GLOBAL ID：200903058929968852

高性能摺動面の製造方法

発明者： 志 村 洋 文 ,  佐々木 信 也 ,  山 下 信 行 ,  越 塚 充 欣 ,  高 須 一 郎 ,  黒 沢 一 吉 ,  神 田 一 隆 ,  八 城 勇 一
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  帝国ピストンリング株式会社 ,  日本精工株式会社 ,  山陽特殊製鋼株式会社 ,  日本パーカライジング株式会社 ,  株式会社不二越 ,  日立精機株式会社
代理人 (2件)： 林 宏 (外1名) ,  林 宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-103470
公開番号（公開出願番号）：特開平6-256786
出願日： 1992年03月30日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：

【要約】【目的】 トリバロイまたはトライステルを利用した高性能摺動面の形成において、溶射法の改善により、密着性が大きくて緻密な溶射被膜を得る方法を提供する。【構成】 母材上に、トリバロイまたはトライステルの粉末をレーザ溶射または減圧プラズマ溶射にレーザ照射を併用したレーザ・プラズマハイブリッド溶射により被着し、高性能摺動面を製造する。

請求項（抜粋）：

母材上に、モリブデン、クロムを主成分とするコバルト基若しくはニッケル基摺動面材料、または、クロム、コバルト、ニッケルを主成分とする鉄基摺動面材料の粉末をレーザ溶射または減圧プラズマ溶射にレーザ照射を併用したレーザ・プラズマハイブリッド溶射により被着し、母材との界面に母材と溶射層との合金層を形成すると共に、溶射層の合金組成を制御することを特徴とする高性能摺動面の製造方法。

IPC (10件)：

C10M169/04 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/12 ,  C23C 4/08 ,  C10M103:04 ,  C10M125:04 ,  C10N 10:12 ,  C10N 10:16 ,  C10N 30:06 ,  C10N 50:08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭59-020393
  
• 特開平3-275798