特許

J-GLOBAL ID：200903058936670184

ニトリルゴムのアミン改質水素化

発明者： ゲリー・リーベリン・レンペル ,  ニール・トーマス・マツクマナス
出願人/特許権者： ポリサー・ラバー・コーポレーシヨン
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-342452
公開番号（公開出願番号）：特開平5-039307
出願日： 1991年11月30日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：

【要約】【構成】 二価ルテニウム触媒の存在下でのニトリルゴムの改良された水素化方法が提供される。この方法の改良点は、水素化をアンモニアおよびC1-C20第一級アミンから選択されるNH2-含有化合物の存在下で実施することである。【効果】 この方法によれば、水素化工程中の分子量の増加を最少にし且つ制御することができる。

請求項（抜粋）：

共役C4-C6ジオレフィンおよびC3-C5不飽和ニトリルからなる重合体であるニトリルゴムを溶液中で一般式【化1】RuXY(CO)ZL2、またはRuDE(CO)Mn、またはRuGJM3、またはRuK2N2[式中、Xはハロゲン原子またはカルボキシレート基から選択され、Yはハロゲン原子、水素原子、フェニル基、カルボキシレート基またはフェニルビニル基から選択され、ZはCO、ピリジン、ベンゾニトリルまたは非配位子から選択され、そしてLは一般式PR3のホスフィン配位子から選択され、ここでRは脂環式またはアルキル基から選択され、nは2または3から選択され、そしてnが3である時にはDはハロゲン原子であり且つEは水素原子であり、そしてnが2である時にはDはハロゲン原子またはカルボキシレート基から選択され、Eはハロゲン原子、水素原子、フェニル基またはカルボキシレート基から選択され、且つMは式PA3のホスフィン配位子から選択され、ここでAはフェニル基もしくはC1-C4アルキル基またはそれらの混合物であり、Gはハロゲン原子または水素原子から選択され、Jはハロゲン原子またはカルボキシレート基から選択され、Kはカルボキシレート基であり、そしてNはトリフェニルホスフィンである]の化合物から選択される二価ルテニウム触媒の存在下で水素化する水素化されたニトリルゴムの改良された製造方法において、改良点が水素化をアンモニアおよびC1-C20第一級アミンから選択されるNH2-含有化合物の存在下で実施することを特徴とする方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭64-045404
  
• 特開昭64-045404