特許
J-GLOBAL ID:200903058956632807

抗菌性低刺激化粧料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 篤子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-355132
公開番号(公開出願番号):特開平10-182333
出願日: 1996年12月20日
公開日(公表日): 1998年07月07日
要約:
【要約】【目的】 優れた抗菌作用を有し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけではなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【構成】 メリッサ(Melissa officinalis)抽出物と、パラオキシ安息香酸エステル類,フェノキシエタノール,感光素101号(プラトニン),感光素201号(ピオニン),感光素401号(ルミネキス),ヒノキチオール,N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩,酸化亜鉛より成る群から選択される1種又は2種以上を併用し含有させて成る。
請求項(抜粋):
メリッサ(Melissa officinalis)の抽出物と、パラオキシ安息香酸エステル類,フェノキシエタノール,感光素101号(プラトニン),感光素201号(ピオニン),感光素401号(ルミネキス),ヒノキチオール,N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩,酸化亜鉛よりなる群から選択される1種又は2種以上を含有することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。
IPC (2件):
A61K 7/00 ,  A61K 7/48
FI (5件):
A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 D ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/48
引用特許:
審査官引用 (9件)
  • 皮膚化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-062521   出願人:丸善製薬株式会社
  • 美白化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-361633   出願人:株式会社ノエビア
  • 皮膚外用剤
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-226492   出願人:株式会社資生堂
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